2019 گاز اچ با کیفیت خوب 99.999 ٪ خلوص CF4 Tetrafluoromethane CF4 GAS

شرکت ما قصد دارد با ایمان عمل کند ، به همه چشم اندازهای ما خدمت کند ، و کار در فناوری جدید و ماشین جدید به طور مکرر برای سال 2019 با کیفیت خوب گاز با کیفیت خوب 99.999 ٪ خلوص CF4 Tetrafluoromethane CF4 گاز ، ما از همه استقبال می کنیم که مشتریان در سراسر جهان به نظر می رسد که از تسهیلات تولید ما بازدید می کنند و همکاری برنده-برنده ای با ما دارند!
شرکت ما قصد دارد با وفاداری کار کند ، به همه چشم اندازهای ما خدمت کند ، و در فناوری جدید و ماشین جدید کار می کندگاز CF4 CF4 GAS و کربن گاز تترا فلوراید، رضایت مشتری همیشه تلاش ما است ، ایجاد ارزش برای مشتریان همیشه وظیفه ماست ، یک رابطه طولانی مدت تجارت متقابل همان کاری است که ما برای آن انجام می دهیم. ما یک شریک کاملاً قابل اعتماد در مورد شما در چین هستیم. البته سایر خدمات مانند مشاوره نیز می توانند ارائه شوند.

پارامترهای فنی

تترا فلوئورید کربن هیدروکربن هالوژنه با فرمول شیمیایی CF4 است. می توان آن را به عنوان هیدروکربن هالوژنه ، متان هالوژنه ، پرفلوروکربن یا به عنوان یک ترکیب معدنی در نظر گرفت. تترا فلوئورید کربن یک گاز بی رنگ و بی بو است ، نامحلول در آب ، محلول در بنزن و کلروفرم. پایدار تحت درجه حرارت و فشار طبیعی ، از اکسیدان های قوی ، مواد قابل اشتعال یا قابل احتراق خودداری کنید. گاز غیر قابل اعتماد ، فشار داخلی ظرف در هنگام قرار گرفتن در معرض گرمای زیاد افزایش می یابد و خطر ترک خوردگی و انفجار وجود دارد. این از نظر شیمیایی پایدار و غیر فاحش است. فقط معرف فلزی آمونیاک-سدیم مایع می تواند در دمای اتاق کار کند. کربن تترافلوراید گاز است که باعث اثر گلخانه می شود. بسیار پایدار است ، می تواند برای مدت طولانی در جو بماند و یک گاز گلخانه ای بسیار قدرتمند است. تترا فلوئورید کربن در فرآیند اچینگ پلاسما از مدارهای مختلف یکپارچه استفاده می شود. همچنین به عنوان گاز لیزر مورد استفاده قرار می گیرد و در مبردهای کم درجه حرارت ، حلالها ، روان کننده ها ، مواد عایق و خنک کننده برای ردیاب های مادون قرمز استفاده می شود. این پرکاربردترین گاز اچینگ پلاسما در صنعت میکروالکترونیک است. این ترکیبی از گاز با خلوص بالا تترا فلورومتان و گاز تترا فلورومتان و اکسیژن با خلوص بالا است. از آن می توان به طور گسترده ای در سیلیکون ، دی اکسید سیلیکون ، نیترید سیلیکون و شیشه فسفوسیلیکات استفاده کرد. اچ کردن مواد فیلم نازک مانند تنگستن و تنگستن نیز به طور گسترده در تمیز کردن سطح دستگاه های الکترونیکی ، تولید سلول های خورشیدی ، فناوری لیزر ، تبرید با درجه حرارت پایین ، بازرسی نشت و مواد شوینده در تولید مدار چاپی مورد استفاده قرار می گیرد. به عنوان یک مبرد با دمای پایین و فناوری اچینگ خشک پلاسما برای مدارهای یکپارچه استفاده می شود. اقدامات احتیاطی برای ذخیره سازی: در یک انبار گاز غیر قابل کنترل خنک و تهویه ذخیره کنید. از منابع آتش و گرما خودداری کنید. دمای ذخیره نباید از 30 درجه سانتیگراد تجاوز کند. آن را باید به طور جداگانه از احتراق و اکسیدان ها به راحتی (قابل احتراق) ذخیره کرد و از ذخیره مخلوط خودداری کرد. محل ذخیره باید مجهز به تجهیزات درمانی اضطراری نشت باشد.

برنامه:

① مبرد:

Tetrafluoromethane گاهی اوقات به عنوان مبرد درجه حرارت پایین استفاده می شود.

② اچینگ:

این ماده در میکروفونیک الکترونیک به تنهایی یا در ترکیب با اکسیژن به عنوان یک اچانت پلاسما برای سیلیکون ، دی اکسید سیلیکون و نیترید سیلیکون استفاده می شود.

بسته عادی:

مزیت:

خلوص ، آخرین تسهیلات ؛

- تولید کننده گواهینامه ؛

تحویل سریع ؛

system سیستم تجزیه و تحلیل خط برای کنترل کیفیت در هر مرحله ؛

قبل از پر کردن نیاز به نیاز و روند دقیق برای استفاده از سیلندر ؛شرکت ما قصد دارد با ایمان عمل کند ، به همه چشم اندازهای ما خدمت کند ، و کار در فناوری جدید و ماشین جدید به طور مکرر برای سال 2019 با کیفیت خوب گاز با کیفیت خوب 99.999 ٪ خلوص CF4 Tetrafluoromethane CF4 گاز ، ما از همه استقبال می کنیم که مشتریان در سراسر جهان به نظر می رسد که از تسهیلات تولید ما بازدید می کنند و همکاری برنده-برنده ای با ما دارند!
2019 کیفیت خوبگاز CF4 CF4 GAS و کربن گاز تترا فلوراید، رضایت مشتری همیشه تلاش ما است ، ایجاد ارزش برای مشتریان همیشه وظیفه ماست ، یک رابطه طولانی مدت تجارت متقابل همان کاری است که ما برای آن انجام می دهیم. ما یک شریک کاملاً قابل اعتماد در مورد شما در چین هستیم. البته سایر خدمات مانند مشاوره نیز می توانند ارائه شوند.