گاز اچینگ با کیفیت خوب 2019 با خلوص 99.999٪ CF4 تترافلورومتان CF4

هدف شرکت ما فعالیت صادقانه، خدمت به همه مشتریان بالقوه و کار مداوم با فناوری و ماشین‌آلات جدید برای سال ۲۰۱۹ است. گاز اچینگ با کیفیت خوب، خلوص ۹۹.۹۹۹٪ CF4، گاز تترافلورومتان CF4. ما از صمیم قلب از مشتریان در سراسر جهان استقبال می‌کنیم تا از تأسیسات تولیدی ما بازدید کنند و همکاری برد-بردی با ما داشته باشند!
هدف شرکت ما فعالیت صادقانه، خدمت به همه مشتریان بالقوه و کار مداوم با فناوری و ماشین‌آلات جدید است.گاز CF4 و گاز تترافلوئورید کربن چینرضایت مشتری همیشه هدف ماست، ایجاد ارزش برای مشتریان همیشه وظیفه ماست، ما به دنبال یک رابطه تجاری بلندمدت و سودمند هستیم. ما یک شریک کاملاً قابل اعتماد در مورد شما در چین هستیم. البته خدمات دیگری مانند مشاوره نیز قابل ارائه است.

پارامترهای فنی

تترافلورید کربن یک هیدروکربن هالوژنه با فرمول شیمیایی CF4 است. می‌توان آن را به عنوان یک هیدروکربن هالوژنه، متان هالوژنه، پرفلوروکربن یا به عنوان یک ترکیب معدنی در نظر گرفت. تترافلورید کربن گازی بی‌رنگ و بی‌بو، نامحلول در آب، محلول در بنزن و کلروفرم است. در دما و فشار معمولی پایدار است، از اکسیدان‌های قوی، مواد قابل اشتعال یا احتراق اجتناب کنید. این گاز غیر قابل احتراق است، فشار داخلی ظرف در هنگام قرار گرفتن در معرض حرارت زیاد افزایش می‌یابد و خطر ترک خوردن و انفجار وجود دارد. از نظر شیمیایی پایدار و غیر قابل اشتعال است. فقط معرف فلزی آمونیاک-سدیم مایع می‌تواند در دمای اتاق کار کند. تترافلورید کربن گازی است که باعث اثر گلخانه‌ای می‌شود. این گاز بسیار پایدار است، می‌تواند برای مدت طولانی در جو باقی بماند و یک گاز گلخانه‌ای بسیار قدرتمند است. تترافلورید کربن در فرآیند حکاکی پلاسما در مدارهای مجتمع مختلف استفاده می‌شود. همچنین به عنوان گاز لیزر استفاده می‌شود و در مبردهای دمای پایین، حلال‌ها، روان‌کننده‌ها، مواد عایق و خنک‌کننده‌ها برای آشکارسازهای مادون قرمز استفاده می‌شود. این گاز پرکاربردترین گاز حکاکی پلاسما در صنعت میکروالکترونیک است. این گاز ترکیبی از گاز با خلوص بالا تترافلورومتان و گاز با خلوص بالا تترافلورومتان و اکسیژن با خلوص بالا است. می‌توان از آن به طور گسترده در سیلیکون، دی‌اکسید سیلیکون، نیترید سیلیکون و شیشه فسفوسیلیکات استفاده کرد. حکاکی مواد لایه نازک مانند تنگستن و تنگستن نیز به طور گسترده در تمیز کردن سطح دستگاه‌های الکترونیکی، تولید سلول‌های خورشیدی، فناوری لیزر، تبرید دمای پایین، بازرسی نشت و مواد شوینده در تولید مدار چاپی استفاده می‌شود. به عنوان مبرد دمای پایین و فناوری حکاکی خشک پلاسما برای مدارهای مجتمع استفاده می‌شود. اقدامات احتیاطی برای نگهداری: در انبار گاز غیر قابل احتراق و خنک و دارای تهویه نگهداری شود. از آتش و منابع گرما دور نگه دارید. دمای نگهداری نباید از 30 درجه سانتیگراد تجاوز کند. باید جدا از مواد قابل احتراق (قابل اشتعال) و اکسیدان‌ها نگهداری شود و از انبار کردن مخلوط آنها خودداری شود. محل نگهداری باید به تجهیزات تصفیه اضطراری نشتی مجهز باشد.

کاربرد:

۱. مبرد:

تترافلورومتان گاهی اوقات به عنوان مبرد دمای پایین استفاده می‌شود.

② اچینگ:

این ماده در میکروساخت قطعات الکترونیکی به تنهایی یا در ترکیب با اکسیژن به عنوان یک ماده‌ی قلم‌زن پلاسما برای سیلیکون، دی‌اکسید سیلیکون و نیترید سیلیکون استفاده می‌شود.

بسته عادی:

مزیت:

① خلوص بالا، آخرین امکانات؛

② تولیدکننده گواهینامه ISO؛

③ تحویل سریع؛

④ سیستم تجزیه و تحلیل آنلاین برای کنترل کیفیت در هر مرحله؛

⑤ الزامات بالا و فرآیند دقیق برای جابجایی سیلندر قبل از پر کردن؛هدف شرکت ما فعالیت صادقانه، خدمت به همه مشتریان بالقوه و کار مداوم با فناوری و ماشین‌آلات جدید برای سال ۲۰۱۹ است. گاز اچینگ با کیفیت خوب، خلوص ۹۹.۹۹۹٪ CF4، گاز تترافلورومتان CF4. ما از صمیم قلب از مشتریان در سراسر جهان استقبال می‌کنیم تا از تأسیسات تولیدی ما بازدید کنند و همکاری برد-بردی با ما داشته باشند!
کیفیت خوب ۲۰۱۹گاز CF4 و گاز تترافلوئورید کربن چینرضایت مشتری همیشه هدف ماست، ایجاد ارزش برای مشتریان همیشه وظیفه ماست، ما به دنبال یک رابطه تجاری بلندمدت و سودمند هستیم. ما یک شریک کاملاً قابل اعتماد در مورد شما در چین هستیم. البته خدمات دیگری مانند مشاوره نیز قابل ارائه است.