گاز اچینگ با کیفیت خوب 2019 با خلوص 99.999٪ CF4 گاز تترافلورومتان CF4

هدف شرکت ما این است که صادقانه عمل کند، به همه مشتریان بالقوه خود خدمت کند، و به طور مکرر در فناوری جدید و ماشین های جدید کار کند برای سال 2019 گاز اچینگ با کیفیت خوب 99.999٪ خلوص CF4 تترافلورومتان CF4 گاز، ما از صمیم قلب از مشتریان در سراسر جهان استقبال می کنیم که ظاهراً از تولید ما بازدید می کنند. تسهیلات و یک همکاری برد-برد با ما داشته باشید!
هدف شرکت ما این است که صادقانه عمل کند، به همه مشتریان بالقوه خود خدمت کند، و به طور مکرر در فناوری جدید و ماشین های جدید کار کند.گاز CF4 چین و گاز تترا فلوراید کربن، رضایت مشتری همیشه تلاش ماست، ایجاد ارزش برای مشتریان همیشه وظیفه ماست، یک رابطه تجاری سودمند متقابل طولانی مدت چیزی است که ما برای آن انجام می دهیم. ما یک شریک کاملا قابل اعتماد در مورد شما در چین هستیم. البته خدمات دیگری مانند مشاوره نیز قابل ارائه است.

پارامترهای فنی

تترا فلوراید کربن یک هیدروکربن هالوژنه با فرمول شیمیایی CF4 است. می توان آن را به عنوان یک هیدروکربن هالوژنه، متان هالوژنه، پرفلوئوروکربن یا به عنوان یک ترکیب معدنی در نظر گرفت. تترا فلوراید کربن گازی بی رنگ و بی بو، نامحلول در آب، محلول در بنزن و کلروفرم است. پایدار در دما و فشار معمولی، از اکسیدان های قوی، مواد قابل اشتعال یا احتراق اجتناب کنید. گاز غیر قابل احتراق، فشار داخلی ظرف در اثر حرارت زیاد افزایش می یابد و خطر ترک خوردن و انفجار وجود دارد. از نظر شیمیایی پایدار و غیر قابل اشتعال است. فقط معرف مایع آمونیاک-سدیم فلزی می تواند در دمای اتاق کار کند. تترا فلوراید کربن گازی است که باعث ایجاد اثر گلخانه ای می شود. بسیار پایدار است، می تواند برای مدت طولانی در جو بماند و یک گاز گلخانه ای بسیار قوی است. تترا فلوراید کربن در فرآیند اچ پلاسما در مدارهای مجتمع مختلف استفاده می شود. همچنین به عنوان گاز لیزری استفاده می شود و در مبردهای با دمای پایین، حلال ها، روان کننده ها، مواد عایق و خنک کننده برای آشکارسازهای مادون قرمز استفاده می شود. این گاز پرمصرف ترین گاز حکاکی پلاسما در صنعت میکروالکترونیک است. این مخلوطی از گاز تترا فلورومتان با خلوص بالا و گاز تترا فلورومتان با خلوص بالا و اکسیژن با خلوص بالا است. می توان آن را به طور گسترده در سیلیکون، دی اکسید سیلیکون، نیترید سیلیکون و شیشه فسفوسیلیکات استفاده کرد. اچ کردن مواد فیلم نازک مانند تنگستن و تنگستن نیز به طور گسترده در تمیز کردن سطح دستگاه های الکترونیکی، تولید سلول های خورشیدی، فناوری لیزر، تبرید در دمای پایین، بازرسی نشت و مواد شوینده در تولید مدار چاپی استفاده می شود. به عنوان مبرد با دمای پایین و فناوری اچینگ خشک پلاسما برای مدارهای مجتمع استفاده می شود. اقدامات احتیاطی برای نگهداری: در انبار گاز غیر قابل احتراق خنک و دارای تهویه نگهداری شود. دور از آتش و منابع گرما نگهداری شود. دمای نگهداری نباید بیش از 30 درجه سانتیگراد باشد. باید جدا از مواد قابل احتراق (قابل احتراق) و اکسیدان ها نگهداری شود و از نگهداری مختلط خودداری شود. محل ذخیره سازی باید مجهز به تجهیزات درمان اضطراری نشت باشد.

کاربرد:

① مبرد:

گاهی اوقات از تترافلورومتان به عنوان مبرد با دمای پایین استفاده می شود.

② اچ کردن:

در ریزساخت الکترونیکی به تنهایی یا در ترکیب با اکسیژن به عنوان اچ کننده پلاسما برای سیلیکون، دی اکسید سیلیکون و نیترید سیلیکون استفاده می شود.

بسته معمولی:

مزیت:

① خلوص بالا، آخرین امکانات؛

②تولید کننده گواهی ISO.

③ تحویل سریع؛

④ سیستم تجزیه و تحلیل آنلاین برای کنترل کیفیت در هر مرحله.

⑤ نیاز بالا و فرآیند دقیق برای جابجایی سیلندر قبل از پر کردن.هدف شرکت ما این است که صادقانه عمل کند، به همه مشتریان بالقوه خود خدمت کند، و به طور مکرر در فناوری جدید و ماشین های جدید کار کند برای سال 2019 گاز اچینگ با کیفیت خوب 99.999٪ خلوص CF4 تترافلورومتان CF4 گاز، ما از صمیم قلب از مشتریان در سراسر جهان استقبال می کنیم که ظاهراً از تولید ما بازدید می کنند. تسهیلات و یک همکاری برد-برد با ما داشته باشید!
2019 کیفیت خوبگاز CF4 چین و گاز تترا فلوراید کربن، رضایت مشتری همیشه تلاش ماست، ایجاد ارزش برای مشتریان همیشه وظیفه ماست، یک رابطه تجاری سودمند متقابل طولانی مدت چیزی است که ما برای آن انجام می دهیم. ما یک شریک کاملا قابل اعتماد در مورد شما در چین هستیم. البته خدمات دیگری مانند مشاوره نیز قابل ارائه است.