لیست قیمت ارزان برای گازهای تخصصی چین عرضه الکترون/نیمه هادی درجه خلوص 99.999% تترافلوراید کربن/تترافلوئورومتان CF4 قیمت گاز

"صداقت، نوآوری، دقت و کارایی" ممکن است مفهوم پایدار سازمان ما برای آن بلندمدت باشد تا به طور مشترک با مشتریان برای تعامل متقابل و سود متقابل برای لیست قیمت ارزان برای گازهای تخصصی چین ایجاد شود. قیمت گاز تترا فلوراید/تترافلوئورومتان CF4، ما به عنوان یک شرکت جوان در حال افزایش، ممکن است موثرترین شرکت نباشیم، اما ما تمام تلاش خود را می کنیم تا به طور کلی شریک فوق العاده شما باشیم.
«صداقت، نوآوری، دقت و کارایی» ممکن است مفهوم پایدار سازمان ما برای آن بلندمدت باشد تا به طور مشترک با مشتریان برای تعامل متقابل و سود متقابل ایجاد شود.گاز چین CF4 و CF4, "ایجاد ارزش، خدمت به مشتری!" هدفی است که ما دنبال می کنیم ما صمیمانه امیدواریم که همه مشتریان همکاری طولانی مدت و دوجانبه سودمند با ما ایجاد کنند.

پارامترهای فنی

تترا فلوراید کربن یک هیدروکربن هالوژنه با فرمول شیمیایی CF4 است. می توان آن را به عنوان یک هیدروکربن هالوژنه، متان هالوژنه، پرفلوئوروکربن یا به عنوان یک ترکیب معدنی در نظر گرفت. تترا فلوراید کربن گازی بی رنگ و بی بو، نامحلول در آب، محلول در بنزن و کلروفرم است. پایدار در دما و فشار معمولی، از اکسیدان های قوی، مواد قابل اشتعال یا احتراق اجتناب کنید. گاز غیر قابل احتراق، فشار داخلی ظرف در اثر حرارت زیاد افزایش می یابد و خطر ترک خوردن و انفجار وجود دارد. از نظر شیمیایی پایدار و غیر قابل اشتعال است. فقط معرف مایع آمونیاک-سدیم فلزی می تواند در دمای اتاق کار کند. تترا فلوراید کربن گازی است که باعث ایجاد اثر گلخانه ای می شود. بسیار پایدار است، می تواند برای مدت طولانی در جو بماند و یک گاز گلخانه ای بسیار قوی است. تترا فلوراید کربن در فرآیند اچ پلاسما در مدارهای مجتمع مختلف استفاده می شود. همچنین به عنوان گاز لیزری استفاده می شود و در مبردهای با دمای پایین، حلال ها، روان کننده ها، مواد عایق و خنک کننده برای آشکارسازهای مادون قرمز استفاده می شود. این گاز پرمصرف ترین گاز حکاکی پلاسما در صنعت میکروالکترونیک است. این مخلوطی از گاز تترا فلورومتان با خلوص بالا و گاز تترا فلورومتان با خلوص بالا و اکسیژن با خلوص بالا است. می توان آن را به طور گسترده در سیلیکون، دی اکسید سیلیکون، نیترید سیلیکون و شیشه فسفوسیلیکات استفاده کرد. اچ کردن مواد فیلم نازک مانند تنگستن و تنگستن نیز به طور گسترده در تمیز کردن سطح دستگاه های الکترونیکی، تولید سلول های خورشیدی، فناوری لیزر، تبرید در دمای پایین، بازرسی نشت و مواد شوینده در تولید مدار چاپی استفاده می شود. به عنوان مبرد با دمای پایین و فناوری اچینگ خشک پلاسما برای مدارهای مجتمع استفاده می شود. اقدامات احتیاطی برای نگهداری: در انبار گاز غیر قابل احتراق خنک و دارای تهویه نگهداری شود. دور از آتش و منابع گرما نگهداری شود. دمای نگهداری نباید بیش از 30 درجه سانتیگراد باشد. باید جدا از مواد قابل احتراق (قابل احتراق) و اکسیدان ها نگهداری شود و از نگهداری مختلط خودداری شود. محل ذخیره سازی باید مجهز به تجهیزات درمان اضطراری نشت باشد.

کاربرد:

① مبرد:

گاهی اوقات از تترافلورومتان به عنوان مبرد با دمای پایین استفاده می شود.

② اچ کردن:

در ریزساخت الکترونیکی به تنهایی یا در ترکیب با اکسیژن به عنوان اچ کننده پلاسما برای سیلیکون، دی اکسید سیلیکون و نیترید سیلیکون استفاده می شود.

بسته معمولی:

مزیت:

① خلوص بالا، آخرین امکانات؛

②تولید کننده گواهی ISO.

③ تحویل سریع؛

④ سیستم تجزیه و تحلیل آنلاین برای کنترل کیفیت در هر مرحله.

⑤ نیاز بالا و فرآیند دقیق برای جابجایی سیلندر قبل از پر کردن.