لیست قیمت ارزان گازهای تخصصی چین، گاز CF4 با خلوص 99.999٪ تترافلورید کربن/تترافلورومتان، الکترون/نیمه هادی

«صداقت، نوآوری، دقت و کارایی» می‌تواند مفهوم پایدار سازمان ما برای همکاری بلندمدت با مشتریان برای عمل متقابل و سود متقابل باشد. لیست قیمت ارزان گازهای تخصصی چین، گاز CF4 با خلوص 99.999٪، الکترون/نیمه‌هادی، به عنوان یک شرکت جوان و در حال رشد، ممکن است بهترین نباشیم، اما تمام تلاش خود را می‌کنیم تا شریک فوق‌العاده‌ای برای شما باشیم.
«صداقت، نوآوری، دقت و کارایی» می‌تواند مفهوم پایدار سازمان ما برای بلندمدت باشد تا به طور مشترک با مشتریان برای عمل متقابل و سود متقابل ایجاد کند.گاز CF4 و CF4 چین«ایجاد ارزش، خدمت به مشتری!» هدفی است که ما دنبال می‌کنیم. ما صمیمانه امیدواریم که همه مشتریان همکاری بلندمدت و سودمندی را با ما برقرار کنند. اگر مایل به کسب اطلاعات بیشتر در مورد شرکت ما هستید، حتماً همین حالا با ما تماس بگیرید!

پارامترهای فنی

تترافلورید کربن یک هیدروکربن هالوژنه با فرمول شیمیایی CF4 است. می‌توان آن را به عنوان یک هیدروکربن هالوژنه، متان هالوژنه، پرفلوروکربن یا به عنوان یک ترکیب معدنی در نظر گرفت. تترافلورید کربن گازی بی‌رنگ و بی‌بو، نامحلول در آب، محلول در بنزن و کلروفرم است. در دما و فشار معمولی پایدار است، از اکسیدان‌های قوی، مواد قابل اشتعال یا احتراق اجتناب کنید. این گاز غیر قابل احتراق است، فشار داخلی ظرف در هنگام قرار گرفتن در معرض حرارت زیاد افزایش می‌یابد و خطر ترک خوردن و انفجار وجود دارد. از نظر شیمیایی پایدار و غیر قابل اشتعال است. فقط معرف فلزی آمونیاک-سدیم مایع می‌تواند در دمای اتاق کار کند. تترافلورید کربن گازی است که باعث اثر گلخانه‌ای می‌شود. این گاز بسیار پایدار است، می‌تواند برای مدت طولانی در جو باقی بماند و یک گاز گلخانه‌ای بسیار قدرتمند است. تترافلورید کربن در فرآیند حکاکی پلاسما در مدارهای مجتمع مختلف استفاده می‌شود. همچنین به عنوان گاز لیزر استفاده می‌شود و در مبردهای دمای پایین، حلال‌ها، روان‌کننده‌ها، مواد عایق و خنک‌کننده‌ها برای آشکارسازهای مادون قرمز استفاده می‌شود. این گاز پرکاربردترین گاز حکاکی پلاسما در صنعت میکروالکترونیک است. این گاز ترکیبی از گاز با خلوص بالا تترافلورومتان و گاز با خلوص بالا تترافلورومتان و اکسیژن با خلوص بالا است. می‌توان از آن به طور گسترده در سیلیکون، دی‌اکسید سیلیکون، نیترید سیلیکون و شیشه فسفوسیلیکات استفاده کرد. حکاکی مواد لایه نازک مانند تنگستن و تنگستن نیز به طور گسترده در تمیز کردن سطح دستگاه‌های الکترونیکی، تولید سلول‌های خورشیدی، فناوری لیزر، تبرید دمای پایین، بازرسی نشت و مواد شوینده در تولید مدار چاپی استفاده می‌شود. به عنوان مبرد دمای پایین و فناوری حکاکی خشک پلاسما برای مدارهای مجتمع استفاده می‌شود. اقدامات احتیاطی برای نگهداری: در انبار گاز غیر قابل احتراق و خنک و دارای تهویه نگهداری شود. از آتش و منابع گرما دور نگه دارید. دمای نگهداری نباید از 30 درجه سانتیگراد تجاوز کند. باید جدا از مواد قابل احتراق (قابل اشتعال) و اکسیدان‌ها نگهداری شود و از انبار کردن مخلوط آنها خودداری شود. محل نگهداری باید به تجهیزات تصفیه اضطراری نشتی مجهز باشد.

کاربرد:

۱. مبرد:

تترافلورومتان گاهی اوقات به عنوان مبرد دمای پایین استفاده می‌شود.

② اچینگ:

این ماده در میکروساخت قطعات الکترونیکی به تنهایی یا در ترکیب با اکسیژن به عنوان یک ماده‌ی قلم‌زن پلاسما برای سیلیکون، دی‌اکسید سیلیکون و نیترید سیلیکون استفاده می‌شود.

بسته عادی:

مزیت:

① خلوص بالا، آخرین امکانات؛

② تولیدکننده گواهینامه ISO؛

③ تحویل سریع؛

④ سیستم تجزیه و تحلیل آنلاین برای کنترل کیفیت در هر مرحله؛

⑤ الزامات بالا و فرآیند دقیق برای جابجایی سیلندر قبل از پر کردن؛