سازنده چین برای گاز الکترونیکی تترا فلوراید کربن CF4 چین

شرکت ما در تمام طول خط مشی کیفیت اصرار دارد: "کیفیت محصول پایه بقای شرکت است. رضایت مشتری نقطه شروع و پایان یک شرکت است. بهبود مداوم، پیگیری ابدی کارکنان است" و هدف ثابت "اول شهرت، اول مشتری" برای تولید کننده چین برایتترا فلوراید کربن چین CF4الکترونیک گاز، ما شما را تشویق می کنیم که به دنبال همکارانی در داخل سرمایه گذاری خود باشید. ما مطمئن هستیم که شما می خواهید کسب و کار را با ما نه تنها مثمر ثمر بلکه سودآور نیز پیدا کنید. همه ما آماده ایم تا آنچه را که نیاز دارید به شما ارائه دهیم.
شرکت ما در تمام طول خط مشی کیفیت اصرار دارد: "کیفیت محصول پایه بقای شرکت است. رضایت مشتری نقطه شروع و پایان یک شرکت است. بهبود مستمر، پیگیری ابدی کارکنان است» و هدف ثابت «اول شهرت، اول مشتری» برایCF4, تترا فلوراید کربن چینما صمیمانه امیدواریم که از این فرصت، ارتباط تجاری خوب و بلندمدتی با شرکت محترم شما بر اساس برابری، سود متقابل و تجارت برد-برد از هم اکنون تا آینده برقرار کنیم. "رضایت شما خوشحالی ماست"

پارامترهای فنی

تترا فلوراید کربن یک هیدروکربن هالوژنه با فرمول شیمیایی CF4 است. می توان آن را به عنوان یک هیدروکربن هالوژنه، متان هالوژنه، پرفلوئوروکربن یا به عنوان یک ترکیب معدنی در نظر گرفت. تترا فلوراید کربن گازی بی رنگ و بی بو، نامحلول در آب، محلول در بنزن و کلروفرم است. پایدار در دما و فشار معمولی، از اکسیدان های قوی، مواد قابل اشتعال یا احتراق اجتناب کنید. گاز غیر قابل احتراق، فشار داخلی ظرف در اثر حرارت زیاد افزایش می یابد و خطر ترک خوردن و انفجار وجود دارد. از نظر شیمیایی پایدار و غیر قابل اشتعال است. فقط معرف مایع آمونیاک-سدیم فلزی می تواند در دمای اتاق کار کند. تترا فلوراید کربن گازی است که باعث ایجاد اثر گلخانه ای می شود. بسیار پایدار است، می تواند برای مدت طولانی در جو بماند و یک گاز گلخانه ای بسیار قوی است. تترا فلوراید کربن در فرآیند اچ پلاسما در مدارهای مجتمع مختلف استفاده می شود. همچنین به عنوان گاز لیزری استفاده می شود و در مبردهای با دمای پایین، حلال ها، روان کننده ها، مواد عایق و خنک کننده برای آشکارسازهای مادون قرمز استفاده می شود. این گاز پرمصرف ترین گاز حکاکی پلاسما در صنعت میکروالکترونیک است. این مخلوطی از گاز تترا فلورومتان با خلوص بالا و گاز تترا فلورومتان با خلوص بالا و اکسیژن با خلوص بالا است. می توان آن را به طور گسترده در سیلیکون، دی اکسید سیلیکون، نیترید سیلیکون و شیشه فسفوسیلیکات استفاده کرد. اچ کردن مواد فیلم نازک مانند تنگستن و تنگستن نیز به طور گسترده در تمیز کردن سطح دستگاه های الکترونیکی، تولید سلول های خورشیدی، فناوری لیزر، تبرید در دمای پایین، بازرسی نشت و مواد شوینده در تولید مدار چاپی استفاده می شود. به عنوان مبرد با دمای پایین و فناوری اچینگ خشک پلاسما برای مدارهای مجتمع استفاده می شود. اقدامات احتیاطی برای نگهداری: در انبار گاز غیر قابل احتراق خنک و دارای تهویه نگهداری شود. دور از آتش و منابع گرما نگهداری شود. دمای نگهداری نباید بیش از 30 درجه سانتیگراد باشد. باید جدا از مواد قابل احتراق (قابل احتراق) و اکسیدان ها نگهداری شود و از نگهداری مختلط خودداری شود. محل ذخیره سازی باید مجهز به تجهیزات درمان اضطراری نشت باشد.

کاربرد:

① مبرد:

گاهی اوقات از تترافلورومتان به عنوان مبرد با دمای پایین استفاده می شود.

② اچ کردن:

در ریزساخت الکترونیکی به تنهایی یا در ترکیب با اکسیژن به عنوان اچ کننده پلاسما برای سیلیکون، دی اکسید سیلیکون و نیترید سیلیکون استفاده می شود.

بسته معمولی:

مزیت:

① خلوص بالا، آخرین امکانات؛

②تولید کننده گواهی ISO.

③ تحویل سریع؛

④ سیستم تجزیه و تحلیل آنلاین برای کنترل کیفیت در هر مرحله.

⑤ نیاز بالا و فرآیند دقیق برای جابجایی سیلندر قبل از پر کردن.شرکت ما در تمام طول خط مشی کیفیت اصرار دارد: "کیفیت محصول پایه بقای شرکت است. رضایت مشتری نقطه شروع و پایان یک شرکت است. بهبود مداوم، پیگیری ابدی کارکنان است" و هدف ثابت "اول شهرت، اول مشتری" برای تولید کننده چین برایتترا فلوراید کربن چینCF4 Electronic Gas، ما شما را تشویق می‌کنیم که به دنبال همکارانی در داخل سرمایه‌گذاری خود باشید. ما مطمئن هستیم که شما می خواهید کسب و کار را با ما نه تنها مثمر ثمر بلکه سودآور نیز پیدا کنید. همه ما آماده ایم تا آنچه را که نیاز دارید به شما ارائه دهیم.
سازنده چین برای تترافلوراید کربن چین، CF4، ما صمیمانه امیدواریم از این فرصت، یک رابطه تجاری خوب و بلندمدت با شرکت محترم شما بر اساس برابری، سود متقابل و تجارت برد-برد از هم اکنون تا آینده برقرار کنیم. "رضایت شما خوشحالی ماست"