محصول جدید چین با کیفیت بالا 99.9 ٪ 99.999 ٪ کربن تترا فلوراید CF4 گاز مبرد

هدف ما این خواهد بود که خریداران خود را با ارائه شرکت طلایی ، ارزش و کیفیت بسیار خوبی برای محصول جدید چین با کیفیت بالا 99.99 ~ 99.999 ٪ کربن Tetrafluoride CF4 گاز مبرد ، از کلیه مشتری های مسکونی و خارج از کشور استقبال کنیم تا به شرکت ما بروند تا با همکاری ما ، یک مدت طولانی خارق العاده را جعل کنیم.
هدف ما این خواهد بود که خریداران خود را با ارائه شرکت طلایی ، ارزش بسیار خوب و کیفیت خوب برای آن انجام دهیمگاز CF4 CF4 GAS و کربن گاز تترا فلوراید، اگر شما نیاز به داشتن هر یک از کالاهای ما دارید یا موارد دیگری را برای تولید دارید ، حتماً سوالات ، نمونه ها یا نقشه های عمیق خود را برای ما ارسال کنید. در همین حال ، با هدف تبدیل شدن به یک گروه بین المللی شرکت ، ما مشتاقانه منتظر دریافت پیشنهادات برای سرمایه گذاری های مشترک و سایر پروژه های تعاونی هستیم.

پارامترهای فنی

تترا فلوئورید کربن هیدروکربن هالوژنه با فرمول شیمیایی CF4 است. می توان آن را به عنوان هیدروکربن هالوژنه ، متان هالوژنه ، پرفلوروکربن یا به عنوان یک ترکیب معدنی در نظر گرفت. تترا فلوئورید کربن یک گاز بی رنگ و بی بو است ، نامحلول در آب ، محلول در بنزن و کلروفرم. پایدار تحت درجه حرارت و فشار طبیعی ، از اکسیدان های قوی ، مواد قابل اشتعال یا قابل احتراق خودداری کنید. گاز غیر قابل اعتماد ، فشار داخلی ظرف در هنگام قرار گرفتن در معرض گرمای زیاد افزایش می یابد و خطر ترک خوردگی و انفجار وجود دارد. این از نظر شیمیایی پایدار و غیر فاحش است. فقط معرف فلزی آمونیاک-سدیم مایع می تواند در دمای اتاق کار کند. کربن تترافلوراید گاز است که باعث اثر گلخانه می شود. بسیار پایدار است ، می تواند برای مدت طولانی در جو بماند و یک گاز گلخانه ای بسیار قدرتمند است. تترا فلوئورید کربن در فرآیند اچینگ پلاسما از مدارهای مختلف یکپارچه استفاده می شود. همچنین به عنوان گاز لیزر مورد استفاده قرار می گیرد و در مبردهای کم درجه حرارت ، حلالها ، روان کننده ها ، مواد عایق و خنک کننده برای ردیاب های مادون قرمز استفاده می شود. این پرکاربردترین گاز اچینگ پلاسما در صنعت میکروالکترونیک است. این ترکیبی از گاز با خلوص بالا تترا فلورومتان و گاز تترا فلورومتان و اکسیژن با خلوص بالا است. از آن می توان به طور گسترده ای در سیلیکون ، دی اکسید سیلیکون ، نیترید سیلیکون و شیشه فسفوسیلیکات استفاده کرد. اچ کردن مواد فیلم نازک مانند تنگستن و تنگستن نیز به طور گسترده در تمیز کردن سطح دستگاه های الکترونیکی ، تولید سلول های خورشیدی ، فناوری لیزر ، تبرید با درجه حرارت پایین ، بازرسی نشت و مواد شوینده در تولید مدار چاپی مورد استفاده قرار می گیرد. به عنوان یک مبرد با دمای پایین و فناوری اچینگ خشک پلاسما برای مدارهای یکپارچه استفاده می شود. اقدامات احتیاطی برای ذخیره سازی: در یک انبار گاز غیر قابل کنترل خنک و تهویه ذخیره کنید. از منابع آتش و گرما خودداری کنید. دمای ذخیره نباید از 30 درجه سانتیگراد تجاوز کند. آن را باید به طور جداگانه از احتراق و اکسیدان ها به راحتی (قابل احتراق) ذخیره کرد و از ذخیره مخلوط خودداری کرد. محل ذخیره باید مجهز به تجهیزات درمانی اضطراری نشت باشد.

برنامه:

① مبرد:

Tetrafluoromethane گاهی اوقات به عنوان مبرد درجه حرارت پایین استفاده می شود.

② اچینگ:

این ماده در میکروفونیک الکترونیک به تنهایی یا در ترکیب با اکسیژن به عنوان یک اچانت پلاسما برای سیلیکون ، دی اکسید سیلیکون و نیترید سیلیکون استفاده می شود.

بسته عادی:

مزیت:

خلوص ، آخرین تسهیلات ؛

- تولید کننده گواهینامه ؛

تحویل سریع ؛

system سیستم تجزیه و تحلیل خط برای کنترل کیفیت در هر مرحله ؛

قبل از پر کردن نیاز به نیاز و روند دقیق برای استفاده از سیلندر ؛هدف ما این خواهد بود که خریداران خود را با ارائه شرکت طلایی ، ارزش و کیفیت بسیار خوبی برای محصول جدید چین با کیفیت بالا 99.99 ~ 99.999 ٪ کربن Tetrafluoride CF4 گاز مبرد ، از کلیه مشتری های مسکونی و خارج از کشور استقبال کنیم تا به شرکت ما بروند تا با همکاری ما ، یک مدت طولانی خارق العاده را جعل کنیم.
محصول جدید چینگاز CF4 CF4 GAS و کربن گاز تترا فلوراید، اگر شما نیاز به داشتن هر یک از کالاهای ما دارید یا موارد دیگری را برای تولید دارید ، حتماً سوالات ، نمونه ها یا نقشه های عمیق خود را برای ما ارسال کنید. در همین حال ، با هدف تبدیل شدن به یک گروه بین المللی شرکت ، ما مشتاقانه منتظر دریافت پیشنهادات برای سرمایه گذاری های مشترک و سایر پروژه های تعاونی هستیم.