گاز CF4 با خلوص بالای چینی تازه وارد برای حکاکی در صنعت نیمه هادی

ما به این باور داریم: نوآوری روح و روان ماست. کیفیت خوب زندگی ماست. نیاز خریدار، خدای ماست برای گاز CF4 با خلوص بالای تازه وارد چین برای حکاکی در صنعت نیمه هادی. ما صمیمانه تمام تلاش خود را می‌کنیم تا بهترین خدمات را برای همه مشتریان و بازرگانان ارائه دهیم.
ما معتقدیم به: نوآوری روح و روان ماست. کیفیت خوب زندگی ماست. نیاز مشتری، خدای ماست.گاز مبرد CF4 چین, سیلندر گازاکنون رقابت در این زمینه بسیار شدید است؛ اما ما همچنان در تلاش برای دستیابی به هدف برد-برد، بهترین کیفیت، قیمت مناسب و دلسوزانه‌ترین خدمات را ارائه خواهیم داد. شعار ما «تغییر به سوی بهتر!» است، به این معنی که «جهانی بهتر پیش روی ماست، پس بیایید از آن لذت ببریم!» تغییر به سوی بهتر! آیا آماده‌اید؟

پارامترهای فنی

تترافلورید کربن یک هیدروکربن هالوژنه با فرمول شیمیایی CF4 است. می‌توان آن را به عنوان یک هیدروکربن هالوژنه، متان هالوژنه، پرفلوروکربن یا به عنوان یک ترکیب معدنی در نظر گرفت. تترافلورید کربن گازی بی‌رنگ و بی‌بو، نامحلول در آب، محلول در بنزن و کلروفرم است. در دما و فشار معمولی پایدار است، از اکسیدان‌های قوی، مواد قابل اشتعال یا احتراق اجتناب کنید. این گاز غیر قابل احتراق است، فشار داخلی ظرف در هنگام قرار گرفتن در معرض حرارت زیاد افزایش می‌یابد و خطر ترک خوردن و انفجار وجود دارد. از نظر شیمیایی پایدار و غیر قابل اشتعال است. فقط معرف فلزی آمونیاک-سدیم مایع می‌تواند در دمای اتاق کار کند. تترافلورید کربن گازی است که باعث اثر گلخانه‌ای می‌شود. این گاز بسیار پایدار است، می‌تواند برای مدت طولانی در جو باقی بماند و یک گاز گلخانه‌ای بسیار قدرتمند است. تترافلورید کربن در فرآیند حکاکی پلاسما در مدارهای مجتمع مختلف استفاده می‌شود. همچنین به عنوان گاز لیزر استفاده می‌شود و در مبردهای دمای پایین، حلال‌ها، روان‌کننده‌ها، مواد عایق و خنک‌کننده‌ها برای آشکارسازهای مادون قرمز استفاده می‌شود. این گاز پرکاربردترین گاز حکاکی پلاسما در صنعت میکروالکترونیک است. این گاز ترکیبی از گاز با خلوص بالا تترافلورومتان و گاز با خلوص بالا تترافلورومتان و اکسیژن با خلوص بالا است. می‌توان از آن به طور گسترده در سیلیکون، دی‌اکسید سیلیکون، نیترید سیلیکون و شیشه فسفوسیلیکات استفاده کرد. حکاکی مواد لایه نازک مانند تنگستن و تنگستن نیز به طور گسترده در تمیز کردن سطح دستگاه‌های الکترونیکی، تولید سلول‌های خورشیدی، فناوری لیزر، تبرید دمای پایین، بازرسی نشت و مواد شوینده در تولید مدار چاپی استفاده می‌شود. به عنوان مبرد دمای پایین و فناوری حکاکی خشک پلاسما برای مدارهای مجتمع استفاده می‌شود. اقدامات احتیاطی برای نگهداری: در انبار گاز غیر قابل احتراق و خنک و دارای تهویه نگهداری شود. از آتش و منابع گرما دور نگه دارید. دمای نگهداری نباید از 30 درجه سانتیگراد تجاوز کند. باید جدا از مواد قابل احتراق (قابل اشتعال) و اکسیدان‌ها نگهداری شود و از انبار کردن مخلوط آنها خودداری شود. محل نگهداری باید به تجهیزات تصفیه اضطراری نشتی مجهز باشد.

کاربرد:

۱. مبرد:

تترافلورومتان گاهی اوقات به عنوان مبرد دمای پایین استفاده می‌شود.

② اچینگ:

این ماده در میکروساخت قطعات الکترونیکی به تنهایی یا در ترکیب با اکسیژن به عنوان یک ماده‌ی قلم‌زن پلاسما برای سیلیکون، دی‌اکسید سیلیکون و نیترید سیلیکون استفاده می‌شود.

بسته عادی:

مزیت:

① خلوص بالا، آخرین امکانات؛

② تولیدکننده گواهینامه ISO؛

③ تحویل سریع؛

④ سیستم تجزیه و تحلیل آنلاین برای کنترل کیفیت در هر مرحله؛

⑤ الزامات بالا و فرآیند دقیق برای جابجایی سیلندر قبل از پر کردن؛ما به این باور داریم: نوآوری روح و روان ماست. کیفیت خوب زندگی ماست. نیاز خریدار، خدای ماست برای گاز CF4 با خلوص بالای تازه وارد چین برای حکاکی در صنعت نیمه هادی. ما صمیمانه تمام تلاش خود را می‌کنیم تا بهترین خدمات را برای همه مشتریان و بازرگانان ارائه دهیم.
تازه واردگاز مبرد CF4 چین, سیلندر گازاکنون رقابت در این زمینه بسیار شدید است؛ اما ما همچنان در تلاش برای دستیابی به هدف برد-برد، بهترین کیفیت، قیمت مناسب و دلسوزانه‌ترین خدمات را ارائه خواهیم داد. شعار ما «تغییر به سوی بهتر!» است، به این معنی که «جهانی بهتر پیش روی ماست، پس بیایید از آن لذت ببریم!» تغییر به سوی بهتر! آیا آماده‌اید؟